河北宾馆专用碱性助洗剂供货厂家
碱性清洗剂含有纯碱(碳酸钠),还含有大量的其他化学合物,对于清洗一些油脂类脏垢和酸性污垢有较好效果，在光学产品中多用于光学玻璃清剂使用。许多光学玻璃产品顽固难清洗的污渍更需要用碱性清洗剂，但是一定要注意清洗的时间，一盘不超过5分种；碱性清洗剂用于去除加工部品表面的切削、研磨、压力等高粘度油酯；机械、备件表面之污垢；半导体等精密工件的清洗。
水溶性助洗剂和酶的洗涤剂组合物，其中提供了相对于水溶性助洗剂的释放，延迟所述酶向洗涤溶液内释放的方式。对于供在如洗衣或机器洗餐具方法的洗涤方法中使用的洗涤剂组合物的配方师而言，能够令人满意地从污染/沾污的基物上去除酶敏感的污垢/污渍，如血液、鸡蛋、巧克力、肉汁，是一项艰巨的任务。通常，这类污垢/污渍能通过使用酶组分去除，酶如蛋白酶、淀粉酶、脂肪酶和纤维素酶。申请人现已发现，使用包含水溶性助洗剂和酶的组合物，其中该组合物提供了相对于水溶性助洗剂的释放，延迟所述酶向洗涤溶液内释放的方式，能获得增强的去除污垢/污渍能力。
烷基两性二羧酸的适宜例子有Miranol(TM)C2MCone[Miranol，Inc.生产(Dayton，NJ)]。氧化胺表面活性剂本发明实用的氧化胺包括具有式R3(OR4)xN0(R5)2结构的那些化合物，其中R3选自烷基、羟基烷基、酰氨基丙基和烷基苯基，或它们的混合物。这些基团含有8至26个碳原子，优选8至18个碳原子；R4代表含有2至3碳原子，优选2碳原子的亚烷基或羟基亚烷基，或它们的混合物；x为0至5，优选0至3；以及各R5代表含1至3，优选1至2碳原子的烷基或羟基烷基，或者代表含1至3，优选1个环氧乙烷基团的聚环氧乙烷基团。R5基团彼此之间通过氧或氮原子相连形成环结构。
这类化合物的实例包括一些市场上可买到的PluronicTM表面活性剂(BASF出售)。非离子EO与环氧丙烷/乙二胺加合物的缩合产物环氧乙烷与环氧丙烷和1，2-乙二胺反应形成的产物的缩合物适合本发明使用。这些化合物的疏水部分包括1，2-乙二胺与过量环氧丙烷的反应产物，并且一般具有约2500至约3000的分子量。这类非离子表面活性剂的例子包括市场上可买到的TetronicTM化合物(BASF销售)。非离子烷基多糖化物表面活性剂供本发明使用的适宜烷基多糖化物见USP4,565,647(1986年1月21日授权于Lienado)中所公开的烷基多糖化物，其具有约6至约30个碳原子，优选约10至约16个碳原子的疏水基团，以及多糖化物，如多糖苷，亲水基团含有约1.3至约10，优选约1.3至约3，选约1.3至约2.7个糖化物单元。可使用含有5至6个碳原子的还原糖化物，如葡萄糖、半乳糖和半乳糖基部分可代替葡糖基部分。(疏水基团可任意地连接在2-、3-、4-等位上，从而得到与葡萄糖苷或半乳糖苷不同的葡萄糖或半乳糖)。糖间键可以位于如附加的糖化物单元的任一位置与上述糖化物单元的2-、3-、4-，和或6-位之间。