黑龙江酒店专用碱性清洗剂批发价格表
碱性清洗剂含有纯碱(碳酸钠),还含有大量的其他化学合物,对于清洗一些油脂类脏垢和酸性污垢有较好效果，在光学产品中多用于光学玻璃清剂使用。许多光学玻璃产品顽固难清洗的污渍更需要用碱性清洗剂，但是一定要注意清洗的时间，一盘不超过5分种；碱性清洗剂用于去除加工部品表面的切削、研磨、压力等高粘度油酯；机械、备件表面之污垢；半导体等精密工件的清洗。
组合物可进一步包含0至约10％，优选约0.01％至约6％重量氯漂白剂清除剂，加入这种清除剂是用于许多存在于供应水中的氯类漂白剂对酶的破坏和失活酶，是在碱性条件下。尽管水中氯含量可能很低(一般在约0.5ppm至约1.75ppm范围内)，但在洗涤过程中与酶接触的水的总体积内存在的氯通常是巨大的；因此，使用过程中酶稳定性可能存在问题。适宜的氯清除剂阴离子可以广泛得到，并可由含铵阳离子的盐或亚硫酸盐、亚硫酸氢盐、硫代亚硫酸盐、硫代硫酸盐、碘化物等举例说明。抗氧剂如氨基甲酸酯(盐)，抗坏血酸等，有机胺如乙二胺四乙酸(EDTA)或其碱金属盐，单乙醇胺(MEA)，及它们的混合物同样也可使用。其它常规清除剂如硫酸氢盐、硝酸盐、氯化物，过氧化氢源如过硼酸钠四水合物、过硼酸钠一水合物和过碳酸钠，以及磷酸盐、缩聚磷酸盐、乙酸盐、苯甲酸盐、柠檬酸盐、甲酸盐、乳酸盐、马来酸盐、酒石酸盐、水杨酸盐，等，以及它们的混合物也可被使用(如果需要)。相对释放动力学本发明的主要方面是提供了相对于水溶性助洗剂的释放，延迟酶向洗涤溶液内释放的方式。
USP5,114,611公开了一类漂白催化剂，它包括过渡金属，包括Mn、Co、Fe或Cu，与非-(大)-环配位体形成的配合物。所述配位体具有下式结构其中R1、R2、R3和R4可各自选自H，取代烷基和芳基，其结果使各R3-C＝N-R4形成五或六元环。所述环可进一步被取代。B为选自O、S、CR5R6、NR7和C＝O的桥基，其中R5、R6和R7可各自为H，烷基或芳基，它们包括取代或未取代的基团。优选的配位体包括吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪、咪唑、吡唑，以及三唑环，所述环可任选地被如烷基、芳基、烷氧基、卤素，和硝基的取代基取代。优选的配位体为2，2’-双吡啶基胺。优选的漂白催化剂包括Co、Cu、Mn、Fe、-二吡啶基甲烷和-二吡啶基胺配合物。高度优选的催化剂包括二氯化(2，2’-二吡啶基胺)合钴，二(异硫氰酸根)二吡啶基胺合钴(II)、高氯酸三(二吡啶基胺)合钴(II)、高氯酸二氧二(2，2-二吡啶基胺)合钴、高氯酸二(2，2’-二吡啶基胺)合铜(II)、高氯酸三(二-2-吡啶基胺)合铁(II)，以及它们的混合物。
N-O基团可用下述一般结构表示或其中R1、R2和R3为脂族基、芳族、杂环或脂环族基团或其结合物，X或/和y或/和z为0或1，其中N-O基团的氮可被连接或其中N-O基团的氮形成这些基团的一部分。N-O基团可以是可聚单元(P)的一部分或可与聚合物骨架连接，或者为这两种情况的结合。其中N-O基团形成可聚单元一部分的适宜聚胺N-氧化物包括其中R选自脂族、芳族、脂环族和杂环基团的聚胺N-氧化物。一类所述的聚胺N-氧化物包括一组其中N-O基团的氮形成R-基团一部分的聚胺N-氧化物。优选的聚胺N-氧化物为其中R代表杂环基如吡啶、吡咯、咪唑、吡咯烷、哌啶、喹啉、吖啶及其衍生物的那些化合物。