张家口碱性洗涤剂什么牌子好
碱性清洗剂含有纯碱(碳酸钠),还含有大量的其他化学合物,对于清洗一些油脂类脏垢和酸性污垢有较好效果，在光学产品中多用于光学玻璃清剂使用。许多光学玻璃产品顽固难清洗的污渍更需要用碱性清洗剂，但是一定要注意清洗的时间，一盘不超过5分种；碱性清洗剂用于去除加工部品表面的切削、研磨、压力等高粘度油酯；机械、备件表面之污垢；半导体等精密工件的清洗。
这类化合物的实例包括一些市场上可买到的PluronicTM表面活性剂(BASF出售)。非离子EO与环氧丙烷/乙二胺加合物的缩合产物环氧乙烷与环氧丙烷和1，2-乙二胺反应形成的产物的缩合物适合本发明使用。这些化合物的疏水部分包括1，2-乙二胺与过量环氧丙烷的反应产物，并且一般具有约2500至约3000的分子量。这类非离子表面活性剂的例子包括市场上可买到的TetronicTM化合物(BASF销售)。非离子烷基多糖化物表面活性剂供本发明使用的适宜烷基多糖化物见USP4,565,647(1986年1月21日授权于Lienado)中所公开的烷基多糖化物，其具有约6至约30个碳原子，优选约10至约16个碳原子的疏水基团，以及多糖化物，如多糖苷，亲水基团含有约1.3至约10，优选约1.3至约3，选约1.3至约2.7个糖化物单元。可使用含有5至6个碳原子的还原糖化物，如葡萄糖、半乳糖和半乳糖基部分可代替葡糖基部分。(疏水基团可任意地连接在2-、3-、4-等位上，从而得到与葡萄糖苷或半乳糖苷不同的葡萄糖或半乳糖)。糖间键可以位于如附加的糖化物单元的任一位置与上述糖化物单元的2-、3-、4-，和或6-位之间。
固态二氧化硅可以是气相法二氧化硅，沉淀法二氧化硅或由凝胶形成技术制备的二氧化硅。这些适宜的二氧化硅颗粒具有0.1至50微米，优选1至20微米平均粒子尺寸和至少50m2/g表面积。通过用直接键合在二氧化硅上的或借助于硅氧烷树脂的二烷基甲硅烷基和/或三烷基甲硅烷基处理这些二氧化硅颗粒，赋予它们疏水性。优选使用其颗粒被二甲基和/或三甲基甲硅烷基赋予疏水性的二氧化硅。优选的包含在本发明洗涤剂组合物内的颗粒防沫化合物包含一定量的二氧化硅，以使二氧化硅与硅氧烷的重量比位于1∶100至3∶10，优选1∶50至1∶7范围内。
本发明的漂白催化剂物包括游离酸或为合适的盐形式。一类漂白催化剂为包含下述组分的催化剂体系具有规定的漂白催化活性的重金属阳离子，如铜、铁或锰阳离子，具有少许或无漂白催化活性的辅助金属阳离子，如锌或铝阳离子，以及对催化和辅助金属阳离子具有规定的稳定常数的螯合剂，如乙二胺四乙酸，乙二胺四(亚甲基膦酸)及其水溶性盐。这类催化剂见USP4,430,243中所述。其它种类的漂白催化剂包括U.S.P.5,246,621和USP5,244,594中公开的锰基配合物。这些催化剂的优选例子包括Mn2IV(u-O)3(1，4，7-三甲基-1，4，7-三氮杂环壬烷)2-(PF6)2，Mn2III(u-O)1(u-OAc)2(1，4，7-三甲基-1，4，7-三氮杂环壬烷)2-(ClO4)2，Mn4IC(u-O)6(1，4，7-三氮杂环壬烷)4-(ClO4)2，MnIIIMn4IV(u-O)1(u-OAc)2(1，4，7-三甲基-1，4，7-三氮杂环壬烷)2-(ClO4)3，以及它们的混合物。其它催化剂见欧洲专利申请549,272号中所述。其它适合本发明使用的配位体包括1，5，9-三甲基-1，5，9-三氮杂环癸烷、2-甲基-1，4，7-三氮杂环壬烷、2-甲基-1，4，7-三氮杂环壬烷、1，2，4，7-四甲基-1，4，7-三氮杂环壬烷，以及它们的混合物。