湖北碱性清洗剂型号规格
碱性清洗剂含有纯碱(碳酸钠),还含有大量的其他化学合物,对于清洗一些油脂类脏垢和酸性污垢有较好效果，在光学产品中多用于光学玻璃清剂使用。许多光学玻璃产品顽固难清洗的污渍更需要用碱性清洗剂，但是一定要注意清洗的时间，一盘不超过5分种；碱性清洗剂用于去除加工部品表面的切削、研磨、压力等高粘度油酯；机械、备件表面之污垢；半导体等精密工件的清洗。
适宜的过氧酸漂白剂前体一般含有一个或多个N-或O-酰基基团，这种前体可选自各类化合物。适宜的种类包括酐、酯、酰亚胺以及咪唑和肟的酰化衍生物，这些种类的适宜化合物实例见GB-A-1586789中所述。适当的酯见GB-A-836988、864798、1147871、2143231和EP-A-0170386中所述。山梨糖醇、葡萄糖以及糖化物与苯甲酰化剂和乙酰化剂的酰化产物也是合适的。具体的O-酰化前体化合物包括2，3，3-三甲基己酰基氧基苯磺酸盐、苯甲酰基氧基苯磺酸盐、壬酰基-6-氨基己酰氧基苯磺酸盐、单苯甲酰基四乙酰基葡萄糖过氧化苯甲酰以及上述化合物的阳离子衍生物，包括烷基铵衍生物和五乙酰基葡萄糖。邻苯二甲酸酐是合适的酐类前体。具体的O-酰基前体化合物的阳离子衍生物包括2-(N，N，N-三甲基铵)乙基4-磺基苯基碳酸酯钠氯化物，以及包括4-(三甲基铵)甲基衍生物的苯甲酰氧基苯磺酸盐的烷基铵衍生物。
如果存在，两性和两性离子表面活性剂一般与一种或多种阴离子和/或非离子表面活性剂结合使用。阴离子表面活性剂实质上，适用于去污目的的阴离子表面活性剂基本上均可包括在本发明的组合物内。它们可包括阴离子硫酸盐、磺酸盐、羧酸盐和肌氨酸盐表面活性剂的盐(包括，例如，钠、钾、铵和取代的铵盐如单-、二-和三-乙醇胺盐)。其它阴离子表面活性剂包括羟乙磺酸盐如酰基羟乙磺酸盐、N-酰基牛磺酸盐、牛磺酸甲酯的脂肪酸酰胺、烷基琥珀酸盐和磺基琥珀酸盐。磺基琥珀酸盐的单酯(是饱和和不饱和的C12-C18单酯)、磺基琥珀酸盐的二酯(尤其是饱和和不饱和的C6-C14二酯)、N-酰基肌氨酸盐。树脂酸和氢化树脂酸也适合，如松香、氢化松香，以及存在于或衍生于脂油的树脂酸和氢化树脂酸。阴离子硫酸盐表面活性剂适合本申请使用的阴离子硫酸盐表面活性剂包括直链或支链的伯烷基硫酸盐、烷基乙氧基硫酸盐、脂肪油基甘油硫酸酯盐、烷基酚环氧乙烷醚硫酸盐、C5-C17酰基-N-(C1-C4烷基)-和-N-(C1-C12羟基烷基)葡糖胺硫酸盐以及烷基多糖化物的硫酸盐如烷基多葡糖苷(以下所述的非离子非硫酸化的化合物)的硫酸盐。
USP5,114,611公开了一类漂白催化剂，它包括过渡金属，包括Mn、Co、Fe或Cu，与非-(大)-环配位体形成的配合物。所述配位体具有下式结构其中R1、R2、R3和R4可各自选自H，取代烷基和芳基，其结果使各R3-C＝N-R4形成五或六元环。所述环可进一步被取代。B为选自O、S、CR5R6、NR7和C＝O的桥基，其中R5、R6和R7可各自为H，烷基或芳基，它们包括取代或未取代的基团。优选的配位体包括吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪、咪唑、吡唑，以及三唑环，所述环可任选地被如烷基、芳基、烷氧基、卤素，和硝基的取代基取代。优选的配位体为2，2’-双吡啶基胺。优选的漂白催化剂包括Co、Cu、Mn、Fe、-二吡啶基甲烷和-二吡啶基胺配合物。高度优选的催化剂包括二氯化(2，2’-二吡啶基胺)合钴，二(异硫氰酸根)二吡啶基胺合钴(II)、高氯酸三(二吡啶基胺)合钴(II)、高氯酸二氧二(2，2-二吡啶基胺)合钴、高氯酸二(2，2’-二吡啶基胺)合铜(II)、高氯酸三(二-2-吡啶基胺)合铁(II)，以及它们的混合物。